記憶體的下一個十年(下)

從 4F² 到 3D 堆疊的未來

作者:元析科技 | 日期:2026年5月21日

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六、3D DRAM:多條賽道並行

4F² 加 VCT 只是過渡方案。Samsung 的路線圖顯示,在經歷 10a、10b、10c 三代 4F² 節點之後,10d 節點將正式轉向 3D DRAM。而 Micron 更加激進,計劃跳過 4F² 階段直接進入 3D DRAM。2026 年 5 月的 VLSI 技術研討會上,Samsung 展示了一顆 16 層垂直堆疊的 DRAM(VS-DRAM)測試晶片,採用 GAA 電晶體和水平儲存電容。

Samsung 3D DRAM
圖 1 Samsung COP 3D DRAM 與 2008 年原始發明對比

NEO Semiconductor:用 NAND 的方法做 DRAM

台灣新創公司 NEO Semiconductor 的 3D X-DRAM 核心思路極為巧妙:直接借用成熟的 3D NAND 製造設備和工藝來生產 DRAM。一張光罩就能完成自對準製程,良率高、成本低。測試數據顯示延遲低於 10 奈秒,85°C 下數據保持超過 1 秒(JEDEC 標準僅要求 64 毫秒),耐久性超過 10¹⁴ 次。如果量產兌現,HBM 容量可從 192GB 推升到 1.5TB。

NEO 3D X-DRAM 陣列
圖 2 NEO 3D X-DRAM 陣列結構
DRAM 密度路線圖
圖 3 2D vs 3D DRAM 密度路線圖

Macronix 旺宏:快閃記憶體老兵的跨界

Macronix 研究院士呂行正在 IMW 2026 上發表了兩篇論文。第一篇提出 3D AND 型 1T1C DRAM 架構,採用 3D NAND 的打孔填充蝕刻方法,100 平方毫米面積上 100 層可達約 120Gb 密度。第二篇提出在現有 3D NAND 中嵌入 eDRAM,利用貫穿陣列通孔作為電容,不需額外製程修改即可增加 MB 級高速快取。

Macronix 3D AND 型 DRAM
圖 4 Macronix 3D AND 型 DRAM 架構
Macronix 3D NAND 嵌入式 eDRAM
圖 5 Macronix 3D NAND 嵌入式 eDRAM 方案

IMEC 3D CCD:一段被遺忘的記憶,正在被喚醒

在所有 3D DRAM 方案中,IMEC 的提案也許是最出人意料的——它要復活的正是 CCD(電荷耦合器件)。CCD 曾經是 DRAM 最有力的競爭對手。1975 年,Gordon Moore 在 IEEE IEDM 會議上更新預測時,曲線上的最後一個數據點——代表當時集成度最高的晶片——就是一顆 16K 的 CCD 儲存器。正是這個觀察促使 Moore 將預測從「每年翻一番」調整為「大約每兩年翻一番」——這就是我們今天熟知的摩爾定律。

然而,CCD 作為儲存器的生涯很快就結束了。封裝材料中的 alpha 粒子會產生電子-空穴對,破壞儲存的電荷位元。Moore 後來打趣道:「As memories, they became just that ... memories.」半個世紀後,IMEC 正在嘗試喚醒這段被遺忘的記憶。他們提出用 3D CCD 部分替代 DRAM,核心優勢是 CCD 不需要電容。2024 年 IEDM 的平面驗證晶片表現出色:142 級 4 相結構,數據保持超 200 秒,耐久性超 100 億次。230 層堆疊時密度是 2030 年 2D DRAM 的 5 倍。

CCD 操作原理
圖 6 Intel 1977 年 CCD 操作原理圖
IMEC 3D CCD 結構
圖 7 IMEC 3D CCD BL/WL 結構
IMEC 平面 CCD TEM
圖 8 IMEC 平面 CCD TEM 截面圖
3D CCD 密度圖表
圖 9 3D CCD 位密度 vs 堆疊層數

七、IGZO:六大方案背後的共同密碼

如果仔細審視上述所有 3D DRAM 方案,會發現一個有趣的共同點:IGZO 幾乎出現在每一個技術路線中。IGZO 之所以成為首選,源於三個關鍵特性。第一,關態漏電流極低——低到 10⁻²⁰ 安培量級,數據保持時間從毫秒延長到秒級。第二,IGZO 是非晶態材料,可在 400°C 以下低溫沉積,不需要單晶矽基板,可以直接沉積在邏輯電路上方實現 3D 堆疊。第三,IGZO 天然適合垂直通道結構。IGZO 正在成為後摩爾時代的跨領域戰略性材料。

八、DDR 與 HBM:兩條並行的演進線

DDR(Double Data Rate)是最常見的 DRAM 類型,廣泛用於個人電腦、筆記本和伺服器。HBM(High Bandwidth Memory)則是為極端頻寬需求而設計的新一代 DRAM 技術。它採用 3D 堆疊架構——多層 DRAM 晶片通過矽通孔(TSV)垂直堆疊,再通過矽中介層與處理器並排放置在同一封裝內。相比 DDR 通過 PCB 走線連接處理器,HBM 的數據傳輸路徑短了幾個數量級,頻寬高了一個數量級,每位元能耗低了一個數量級。這讓 HBM 成為 AI 加速器不可或缺的標配。

SK hynix 是 HBM 領域的絕對領導者,但 CoWoS 產能持續吃緊,促使其開始測試 Intel 的 EMIB 2.5D 封裝——不需要大面積矽中介層,成本更低,良率更高。HBM 容量也在快速攀升:目前 HBM3E 約 192GB,隨著 3D DRAM 技術成熟,未來可能躍升到 TB 級別。

DRAM 在裝置中的應用
圖 10 DRAM 在裝置中的應用

DDR 通常以 PoP(Package on Package)封裝方式應用於智慧型手機的晶片中,而 HBM 當前則使用 2.5D 封裝技術,包括 Intel 的 EMIB 技術和 TSMC 的 CoWoS 技術等。

九、產業動態與地緣政治

台灣群聯電子(Phison)提出了完全不同的思路:用快閃記憶體(NAND SSD)部分替代昂貴的 DRAM。其 AIdaptiv+ 方案通過智慧數據分層和快取管理,讓快閃記憶體承擔一部分 AI 推理工作。

技術演進並不在真空中發生。美中博弈之下,記憶體市場正分裂為「雙速市場」。先進產品越來越被拉向政治盟友區域,成熟產品面臨被供應商去優先化的風險。長鑫儲存(CXMT)2026 年第一季度營收 508 億元人民幣,同比增長 719%;淨利潤 247 億元,同比暴增 1688%。CXMT 選擇了單片集成路線的 3D DRAM,避開晶圓鍵合設備依賴。高通已與 CXMT 合作,計劃推出搭載 CXMT 4GB 3D DRAM 的獨立 NPU 方案。

十、展望:DRAM 的下一個十年

站在 2026 年的節點上,DRAM 產業正處於自誕生以來最劇烈的技術變革期。技術路線的競爭格局仍未定型。Samsung 押注先 4F² 後 3D 的漸進路線;Micron 豪賭直接跳到 3D DRAM;NEO 用 NAND 設備做 DRAM 可能改寫成本結構;IMEC 的 CCD 方案在 CXL 緩衝場景下可能開闢新市場。IGZO 作為跨方案通用材料已確立地位,Hybrid Bonding 作為 3D 堆疊基礎設施正快速成熟。

未來十年的時間線大致如下:2028 年,Samsung 的 4F² 加 VCT 量產標誌 DRAM 告別純平面時代;2030 年前後,多種 3D DRAM 架構進入量產競爭;2035 年,NEO 路線圖預期單晶片 1Tb,屆時 HBM 容量將以 TB 計。

有一點是確定的:記憶體不再是被動的儲存介質,而是正在成為決定計算系統性能上限的關鍵組件。從 Dennard 的沙發到 2035 年的 TB 級 HBM,DRAM 的故事遠未結束。

"Yes, there's an end to scaling. But there's no end to creativity." — Robert Dennard

參考資料:"Insights into Semiconductor Technologies," Springer;R. H. Dennard, U.S. Patent 3,387,286, 1968;Samsung VLSI 2026;NEO Semiconductor 2025–2026;IMEC IEDM 2024 & IMW 2026;SK hynix & Intel EMIB 2026;G. Moore, Electronics, 1965。本文僅供技術交流,不構成投資建議。