技術與洞察

探索最新的材料分析技術、失效案例研究以及半導體產業趨勢。

電晶體通道中的鼠咬缺陷
顯微技術 2026年3月14日

電子顯微鏡揭示半導體中的「鼠咬」缺陷

康乃爾大學研究團隊利用電子疊層繞射成像術,首次以三維原子解析度直接觀測到電晶體閘極介電界面的「鼠咬」粗糙缺陷。

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Cornell University
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FIB-SEM 3D NAND TEM 試片製備
半導體製程 2026/2/21

FIB-SEM 高精度製備 3D NAND 穿透式電子顯微鏡試片

JEOL 展示如何運用 JIB-PS500i FIB-SEM 系統,對 3D NAND 快閃記憶體進行高精度 TEM 試片製備。其可傾斜超過 90° 的載台,允許在不取出試片的情況下直接進行 STEM 驗證,從三個截面方向完成分析,大幅提升奈米級半導體元件的品質檢測效率。

JEOL JEOL Ltd.
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显微分析技术 2026/2/8

通過人工智能提升 4D-STEM 效率

透過整合先進的子取樣演算法與即時影像重建,SenseAI 使 4D-STEM 研究人員能更快速且更有效率地捕捉高品質數據,同時維護即使是最脆弱樣本的完整性。

Author NanoScience
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Feynman on class
分析技術 2005/11/28

原子级成像50年(2005年標題)

1955年10月11日,宾夕法尼亚州立大学的物理学教授Erwin W. Müller和他的博士生Kanwar Bahadur创造了历史——成功實現單原子成像。

Author Chemical & Engineering News
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Feynman on class
分析技術 2025/08/25

AFM納米壓痕技術

若希望在不依賴昂貴的電子顯微鏡原位量測的情況下,達到更小的量測尺度並同時具備優異的成像能力,則可採用原子力顯微鏡(AFM)壓痕技術。